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口頭

Tb-Co垂直磁化膜のTb M5及びCo L3磁気円二色性ヒステリシス

安居院 あかね; 水牧 仁一朗*; 朝日 透*; 松本 幸治*; 森河 剛*; 田中 真人*; 佐山 淳一*; 逢坂 哲彌*

no journal, , 

希土類-遷移金属(RE-TM)アモルファス薄膜はSperri磁性の構造を持ち、あるRE-TMの組成比において垂直磁気異方性を示す。これまでにわれわれはTb-Fe-Coアモルファス薄膜の磁気異方性エネルギーや保磁力などの磁気特性と、構成元素別のミクロスコピックな物理量との相関について報告してきた。X線磁気円二色性を用いた測定は、得られる情報が元素選択的・軌道選択的でありRE-TM薄膜のように複数の磁性元素で構成される磁性体の磁気的性質を調べるのに有効な手段である。今回は、Tb-Co垂直磁化膜のTb 4f及びCo3dの電子に着目して、元素・軌道選択的磁気ヒステリシス測定を行ったので報告する。

口頭

垂直磁化膜Sm(Co,Cu)$$_{5}$$における元素別磁化過程

水牧 仁一朗*; 安居院 あかね; 田中 真人*; 佐山 淳一*; 朝日 透*; 逢坂 哲彌*

no journal, , 

これまでに、われわれは、Cu/Ti複合下地層を適用することにより、角形比が1となる極めて高い垂直磁気異方性を示すSmCo$$_{5}$$薄膜を作製することに成功している。下地層との相互拡散によりSm-Co層内にCu原子の存在することが垂直磁気異方性の発現に深くかかわっていると考えられている。このSm-Co層内に存在するCuの電子・スピン状態と垂直磁気異方性の関連を理解するため、Cu-L吸収端において軟X線吸収分光及び磁気円二色性測定を行った結果を報告する。

口頭

TbCo/Pd垂直磁気多層膜の磁気円二色性の層厚依存性

田中 真人*; 朝日 透*; 佐山 淳一*; 安居院 あかね; 水牧 仁一朗*; 逢坂 哲彌*

no journal, , 

垂直磁気記録材料の候補の一つであるTbCo/Pd多層膜の示す複雑な垂直磁気異方性の起源を軟X線吸収スペクトル(XAS),磁気円二色性(MCD)及び元素選択磁気ヒステリシス(ESMH)の層厚変化を測定し、本多層膜の特に補償層厚付近におけるTb-M$$_{4,5}$$, Co-L$$_{2,3}$$の吸収端でのXASとMCD測定から各構成元素の軌道,スピン磁気モーメントを、ESMH測定から各元素のMCDループ形状と特に保磁力の情報を得ることを目的とした。

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